粉末冶金法:通过将铟粉末在高温下压制和烧结成型,可有效控制杂质含量,能制造出形状复杂的靶材,制得的靶材具有较高的致密度和均匀性。
熔炼法:将铟材料加热至熔点以上,使其成为液态,然后通过铸模或其他成型工艺制造靶材,该方法简单快捷,但控制纯度和均匀性相对较难。
半导体领域:纯铟在半导体中用作薄膜层,铟靶材可用于制造高速电动机的轴承涂层,使润滑油均匀分布,还可用于半导体器件的制造,如集成电路、芯片等。
光学领域:用于制造反射率与银镜一样高但不会褪色的镜,还可用于制造其他光学器件,如滤光片、光通信器件等。
其他领域:可用于制造低熔点合金,如 24%铟和 76%镓的合金在室温下为液态,此外,还可用于制造整流器、热敏电阻和光电导体等电气组件。
真空系统维护
腔体清洁:每次溅射后及时清理腔体内壁及基片台的铟沉积层(铟延展性强,易粘附在腔体表面,长期积累可能导致短路或影响真空度)。
可用棉签蘸取乙醇擦拭,或用软质刮刀轻轻刮除(避免损伤腔体涂层)。
真空泵保养:定期更换真空泵油(因铟蒸气可能污染泵油,建议每 200 小时检查一次),防止油液粘度升高影响抽气效率。